特徴
- 超純水電解によるクリーンなオゾンガスが原料。
- オゾン水100mg/L以上の高濃度、オゾン水流量80 L/min. 以上も対応可能。
- オゾン水濃度、 流量はお客様のニーズ合わせて対応可能。
- バッチ式洗浄機には高濃度/大流量、枚葉式洗浄機には高濃度/小流量、連続シャワー式には低濃度/大流量を推奨。
- コンパクトな省スペース設計。
- オゾン発生器とブースターポンプ搭載により高吐出圧実現。
- 運転開始より3分で設定能動に到達する急速立ち上げ機構搭載。
電解オゾン水製造装置
高性能
頑健性
長寿命
用途
- シリコンウエハ製造分野：エピ前洗浄、イオン注入前洗浄、平坦化後洗浄、純水殺菌。
- 半導体製造分野：ウエハ受入洗浄、成膜前洗浄、レジスト残渣除去、レジスト除去、純水ライン殺菌、CMP後洗浄。
- LCD製造分野：ガラス基板受入洗浄、成膜前洗浄、純水ライン殺菌。
電解式オゾン水製造装置プロセス
標準モデルデータ
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機種名 |
オゾン水濃度(mg/L) |
オゾン水流量(L/min.) |
外形寸法(巾×奥行×高さｍｍ) |
質量(kg) |
電源容量(kVA) |
炭酸ガス添加 |
|
POW-2010-S |
20 |
10 |
1,300x1,200x1,700 |
650 |
11.9 (3φAC200V) |
有/無 |
|
POW-6005-S-C |
60 |
5 |
1,300x1,200x1,700 |
700 |
12 (3φAC200V) |
有 |
|
POW-10005-SP-C |
100 |
5 |
1,300x1,300x1,900 |
1200 |
17.1 (3φAC200V) |
有 |
ユーティリティ
1. 電力（電圧、周波数の確認）
2. 純水（17MΩ・cm以上の超純水。水温25℃以下。含有過酸化水素濃度50ppb以下）
3. 冷却水（23℃±3℃）
4. 制御エアー（0.5～0.7MPa）
5. 熱排気ダクト
6. 排水ライン（自然流下または強制排出）
オプション
1. オゾン水昇圧ユニット
2. 薬液注入ユニット
3. 炭酸ガス添加ユニット
4. 節水ユニット